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无掩膜激光直写设备价格

简述信息一览：

掩膜版又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版主要由基板和遮光膜组成。

应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，其中后者可以应用于芯片制造。（顺便提一下，通常讲的菲林即film，底片或胶片的意思，感光为微小晶体颗粒）。

（图片来源网络，侵删）

掩膜（mask）就是遮罩，在Photoshop里面就是图层蒙板，图层蒙板是一个附加在创建它的图层之上的灰色图像，对于其中的透明区域，原来图层中的内容是可编辑的；对于其中的不透明区域，对应原来图层中的图像不可编辑。

光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它***用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

把你下一步需要处理/参与计算的区域确定出来，比如你只想让没有植被的区域参与计算，忽略植被，你就把没有植被的地区提出来，做成掩膜，在以后处理的时候加上掩膜，有植被的区域就不参与计算。

（图片来源网络，侵删）

那中国其实有很多企业都是在研究光刻机的，比如说我们中国的新科技公司。

国内只有一家做光刻机整机的公司，就是上海微电子。

光刻机国产排名第一的是上海微电子。目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。

1、ASML公司最新产品EUV，也就是极紫外线光刻机，预计2019年供货给中芯国际，该设备是全球最高端也是唯一可以生产10纳米以下芯片的光刻机，这对IC行业发展影响巨大。

2、一是台积电的股东中，80%是境外的，只有20%掌握在台湾同胞手里，换句话说，台积电赚的钱有80%被外国人拿走了。

3、几乎在同一时间，一家名为“广州市城投雪松投资控股有限公司”的企业注册设立，由广州城投持股51%，雪松控股持股49%，自此从2019年开始，广州城投新增从事电解铜等大宗商品贸易业务，而这一直是雪松控股的主营业务。

4、要想制造芯片就得用到光刻机，而世界上最好的光刻机被荷兰ASML公司垄断，荷兰和美国又是盟友。所以如果美国公司不提供芯片给中国，那么很多国家都不会提供。

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